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    • 专利摘要:
    本發明係一種藉由電解法製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物之方法，其目的在於：將電解液之導電度設為10mS/cm以上而進行電解，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物於電解液中析出，進而對析出之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物進行清洗直至該清洗液之導電度成為1mS/cm以下，藉此抑制生產性之降低或品質之降低。
    公开号:TW201305389A
    申请号:TW101121714
    申请日:2012-06-18
    公开日:2013-02-01
    发明作者:Yuichiro Shindo；Kouichi Takemoto；Mitsuyuki Konaka
    申请人:Jx Nippon Mining & Metals Corp；
    IPC主号:C25D11-00
    专利说明:
    氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法
    該發明關於一種主要於製造形成ITO膜之濺鍍用ITO靶時所使用的作為氧化銦、或含有氧化銦之化合物之粉末之原料的氫氧化銦、或含有氫氧化銦之化合物之製造方法。
    ITO(以銦-錫作為主成分之複合氧化物)膜被廣泛使用作為以液晶顯示器為中心之顯示裝置之透明電極(膜)。形成該ITO膜之方法，普遍係藉由真空蒸鍍法或濺鍍法等通常稱為物理蒸鍍法之方法來形成。尤其，就操作性或膜之穩定性而言，較常使用磁控濺鍍法形成。
    利用濺鍍法形成膜時，係藉由如下方法進行：使Ar離子等正離子物理性碰撞設置於陰極之靶，利用該碰撞能量釋放出構成靶之材料，而將與靶材料為大致相同組成的膜積層於對面之陽極側之基板。
    利用濺鍍法之被覆法之特徵在於，可藉由調節處理時間或供給電力等，而以穩定之成膜速度自埃單位之較薄之膜形成至數十μm之較厚之膜。
    一般，ITO燒結體靶係藉由將氧化銦與氧化錫粉碎混合，使獲得之混合粉成形並進行燒結而製造。於使氧化銦與氧化錫粉碎混合時，藉由球磨機、V型混合機或帶型混合機進行乾式或濕式混合。
    作為ITO燒結體靶之原料的氧化銦粉末可藉由對氫氧化銦進行預燒而製造。製造該氫氧化銦之方法的代表性公知技術於專利文獻1中有所揭示。該專利文獻1之方法藉由以銦作為陽極進行電解而製造氫氧化銦，對該氫氧化銦進行預燒而獲得氧化銦粉末。再者，該專利文獻1因更名而引起申請人名不同，但為本申請人之申請案。
    作為氧化銦之製造方法，亦可考慮中和法。然而，亦如專利文獻1所記載，因存在如下問題，故電解法較為有效。
    a)獲得之氧化銦粉末之諸特性(平均粒徑、視密度等)之差異較大，此成為氧化銦系之顯示材料、螢光體等之「品質差異之降低」或「高品質化」之阻礙要因。
    b)未必可容易地固定控制製造條件(液溫、反應速度等)，為了使之穩定而會導致設備成本上升。
    c)於要求特性與先前不同之粉末之情形時，無法靈活應對該要求。
    d)裝置之規模變得相對較大，因此若欲固定地控制製造條件，則需要相當大之勞力，而且可以說未必可容易地應付增產。
    e)因中和廢液(例如硝酸銨)隨時產生，故必需進行處理，此會提高運轉成本。
    其次，揭示藉由電解製造氫氧化銦之代表例。
    於硝酸銨(NH4NO3)、濃度：0.2~5mol/L、pH值：4~10、溫度：10~50℃之水溶液中，以銦作為陽極(anode)，以電流密度100~1800A/m2通電而進行電解。繼而，對電解槽底之沈積物進行過濾、清洗及乾燥，獲得氫氧化銦。
    於以該氫氧化銦作為原料製造氧化銦之情形時，只要於1100℃左右之溫度進行焙燒即可。藉此，可獲得平均粒徑1~5μm之氧化銦粉末。
    於上述之氫氧化銦之電解時，在電解槽中配置銦板作為陽極(anode)，於陰極(cathode)配置通常之不鏽鋼板，使電解液流動於其間進行電解。然而，於陽極之表面附著有所生成之氫氧化銦，於陰極之表面電沈積有銦，且以樹枝(樹枝狀結晶)狀延伸，導致陽極及陰極短路，從而產生無法長時間電解之問題。
    又，若連續實施電解，則溶出電位高於In之元素會形成雜質而殘留於陽極表面，結果會產生於表面濃縮之問題。若於此種狀況下繼續電解，則雜質亦會混入電解液中，導致之前所析出之氫氧化銦之純度變差。又，於陽極表面，銦金屬局部性地消失，陽極表面之電流密度變得不均勻。其結果為，亦產生如下之異常：於陽極表面局部性地產生孔，陽極本身脫落於浴中。
    進而，於氫氧化銦之電解時，產生如下之問題：於陽極之表面附著有所生成之氫氧化銦，於陰極之表面電沈積有銦，且以樹枝(樹枝狀結晶)狀延伸，導致陽極及陰極短路。
    若調查先前技術，則揭示有如下所述之專利文獻。
    專利文獻2為氧化銦粉末之製造方法，且係以銦作為陽極，攪拌至使氫氧化銦之沈澱懸浮於電解液中之狀態而進行電解者。具體而言，於不進行攪拌之情形時，電解槽之液面附近之pH值為8.5左右，槽底附近之pH值為3.2左右，藉由攪拌電解液，液面附近與槽底附近之電解液得以混合，pH值變得均勻化。
    攪拌程度係使藉由電解所產生之氫氧化銦之沈澱成為懸浮於電解液中之狀態。藉此，若攪拌之程度較弱，則使電解液之pH值均勻化之效果變得不充分。於通常之電解中，普遍係使電解液成為靜流狀態而進行，未進行如使槽底之黏質浮起之攪拌，但本發明之電解步驟之特徵在於積極地攪拌電解液直至沈澱為懸浮之程度而進行電解。
    電解液之液溫為40~80℃(50~70℃)，使用硝酸銨或氯化銨作為電解液。電解液中之試劑濃度1~3mol/L，電壓2~4V，電流密度200~900A/m2(700A/m2左右)，極間25m/m~50m/m，陰極之材質可為碳，通常係使用銦板。預燒通常設為於空氣中且700~1100℃(800~950℃左右)。
    於專利文獻3中記載有氧化銦-氧化錫粉末之製造方法，且揭示有將銦及錫作為不同的陽極同時電解(PR式脈衝通電)之技術。揭示有電解液係使用NH4NO3，以濃度0.2~5mol/L、pH值4~9.5、浴溫0~50℃、電流密度100~1800A/m2進行電解之技術。將藉此獲得之粉末於1100℃焙燒，製造平均粒徑20μm、視密度1.7g/cm3之ITO粉末。獲得含有SnO2之比率10wt%、燒結體密度6.70g/cm3或4.78g/cm3之ITO靶材。
    於專利文獻4中，作為ITO靶材之製造方法，揭示有藉由電解法製造氫氧化銦之方法。具體而言，係對藉由將銦作為陽極進行電解而產生之氫氧化銦進行清洗並使其分散於純水中的方法。記載有如下內容：作為電解液之硝酸銨雖在成本及維持純度之方面較佳，但因於電極表面析出絕緣體即偏錫酸，故無法連續地進行電解。記載有如下內容：使用分散有氫氧化銦之粒子徑10μm以下、10~80wt%之氫氧化銦之分散溶液，混合有氫氧化銦分散溶液與偏錫酸分散溶液之漿料之pH值成為5以上且9以下。
    於專利文獻5中記載有使電解煉製中之電解液之濃度均質化之方法及電解槽，且揭示有如下方法：於電解槽之端部配置有供液袋，當自該供液袋對陽極板及陰極板供液之時，供液袋上下均具有開口部，自上部開口部供液，自下部開口部供給新電解液，並且於該供液袋之上側之側面設置有孔部，亦可自該孔向陽極板及陰極板供液，藉此使電解液之濃度均勻化。此情形時，對陽極板及陰極板於垂直方向進行供液。
    於專利文獻6中揭示有電解精製或電解提煉用電解槽，記載有如下結構之電解槽：於供液側內壁設置有多個供液孔，於排液側內壁設置有同樣多個排液孔，而使液流於陽極與陰極之間直行。
    於以上之公知文獻中，未規定電解液中之導電度，且完全未了解到電流效率惡化之問題、及其後之步驟(析出之氫氧化銦等之清洗)會對燒結時之密度造成影響，且亦未揭示用以解決此問題之具體方法。
    又，完全未揭示如下之了解：於氫氧化銦之電解時雜質濃縮於陽極之表面、陽極脫落之問題，及，電解液中生成除氫氧化銦以外之雜質含量高之氫氧化物而使氫氧化銦之純度降低，且亦未揭示用以解決此問題之具體方法。
    又，於以上之公知文獻中，完全未揭示如下之了解：於氫氧化銦之電解時陽極之表面附著有所生成之氫氧化銦，及，於陰極之表面電沈積有銦且以樹枝(樹枝狀結晶)狀延伸而產生陽極及陰極短路之問題，且亦未揭示用以解決此問題之具體方法。
    專利文獻1：日本專利第2829556號公報
    專利文獻2：日本特開平10-204669號公報
    專利文獻3：日本專利第2736492號公報
    專利文獻4：日本特開2001-303239號公報
    專利文獻5：日本特開2007-204779號公報
    專利文獻6：日本實開平3-89166號公報
    本發明之目的在於解決當藉由電解製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物之情形時所產生之問題，即產生電流效率極其差、進而於燒結時燒結特性變差且密度不上升之情形。以此，抑制生產性之降低或品質之降低。
    又，本發明之目的在於查明如下問題之原因，並且提出用以解決其之具體方策，從而抑制生產性之降低或品質之降低，該問題為：於電解槽中配置作為陽極(anode)之銦板及陰極(cathode)板，使電解液流動於其間而進行電解時，形成於陽極之表面之氧化層及雜質濃縮於該氧化層；陽極本身自中途脫落；生成除氫氧化銦以外之雜質含量較高之氫氧化銦，氫氧化銦之純度降低。
    進而，本發明之目的在於查明藉由電解製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物之情形時所產生之問題的原因，並且提出用以解決此等問題之具體對策，從而抑制生產性之降低或品質之降低，該問題為：於電解槽中配置作為陽極(anode)之銦或銦合金板及陰極(cathode)板，使電解液流動於其間而進行電解時，於陽極之表面附著有所生成之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物，於陰極之表面電沈積有銦或銦合金，且以樹枝(樹枝狀結晶)狀延伸，導致陽極及陰極短路。
    本發明係為解決上述問題而提供以下之方法者。
    1)一種藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其係藉由電解而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的方法，其特徵在於：將電解液之導電度設為10mS/cm以上進行電解，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物於電解液中析出，進而對析出之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物進行清洗直至該清洗液之導電度成為1mS/cm以下。
    2)如上述1)之藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其中，清洗至析出之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的清洗液之導電度成為0.1mS/cm以下。
    又，本發明係為解決上述問題而提供以下之方法者。
    3)一種藉由電解進行之氫氧化銦粉末的製造方法，其係於電解槽中將陰極板與作為原料之銦金屬的陽極板隔有間隔而交替地排列，朝該陰極板與陽極板之間供給電解液，而藉由電解製造氫氧化銦粉末的方法，其特徵在於：使電解液中析出氫氧化銦粒子，於陽極板之重量成為陽極初始重量之20%~80%之階段中止電解，取出使用完之陽極板，使該使用完之陽極板熔解並且補充新的銦金屬而加以鑄造，從而重新製作陽極板，使用該重新製作之陽極板開始電解，使氫氧化銦粒子析出至電解液中。
    4)如上述3)之藉由電解進行之氫氧化銦粉末的製造方法，其中，使用不鏽鋼板或鈦板作為陰極板進行電解。
    5)如上述3)至4)中任一項之藉由電解進行之氫氧化銦粉末的製造方法，其進一步具有下述步驟：取出析出於電解液中之氫氧化銦漿料的步驟；將該漿料濃縮，分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液的步驟；及將該固形物成分稀薄液分配至上述電解液供給噴嘴的步驟。
    6)如上述5)之藉由電解進行之氫氧化銦粉末的製造方法，其具有下述步驟：對上述固形物成分濃縮液進行過濾，將該濾液分配至上述電解液供給噴嘴的步驟；及對經過濾之固形物進行乾燥製成氫氧化銦粉末的步驟。
    又，本發明係為解決上述問題而提供以下之方法者。
    7)一種氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的電解製造裝置，其係藉由電解法而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的裝置，其特徵在於：於電解槽中將陰極板與作為原料的銦或銦合金之陽極板隔有間隔地交替排列，於該陰極板與陽極板之間且為各陰極板及陽極板之間之一側緣之附近位置，配置有朝陰極板及陽極板之另一側緣供給電解液之噴嘴，使自該噴嘴之開口部流出之電解液於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中。
    8)如上述7)之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的電解製造裝置，其中，陰極板為不鏽鋼板或鈦板。
    9)如上述7)或8)之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的電解製造裝置，其中，配置有1個或複數個自各陰極板與陽極板之間之一側緣向另一側緣供給電解液之噴嘴，使自該噴嘴之開口部流出之電解液於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，從而使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中。
    10)如上述7)至9)中任一項之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的電解製造裝置，其具有下述裝置：取出至電解液中電解液中之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的裝置；將該氫氧化物濃縮，分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液的裝置；將該固形物成分稀薄液分配至上述電解液供給噴嘴的裝置。
    11)如上述7)之氫氧化銦粉末或含有氫氧化銦之化合物粉末的電解製造裝置，其具備對上述固形物成分濃縮液進行過濾，將該濾液分配至上述電解液供給噴嘴之裝置；及對經過濾之固形物進行乾燥，製造氫氧化銦粉末或含有氫氧化銦之化合物粉末的裝置。
    12)一種藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其係藉由電解而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的方法，其特徵在於：於電解槽中將陰極板與作為原料的銦或銦合金之陽極板隔有間隔地交替排列，於該陰極板與陽極板之間且為各陰極板及陽極板之一側緣之附近位置，配置朝陰極板及陽極板之另一側緣供給電解液之噴嘴，對自該噴嘴之開口部流出之電解液之液流進行調節，使其於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中。
    13)如上述12)之藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其中，使用不鏽鋼板或鈦板作為陰極板進行電解。
    14)如上述12)或13)之藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其中，配置1個或複數個自各陰極板與陽極板之間之一側緣朝另一側緣供給電解液之噴嘴，對自該噴嘴之開口部流出之電解液之各個液流進行調節，使其於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中。
    15)如上述12)至14)中任一項之藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其進一步具有下述步驟：取出析出至電解液中之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的步驟；將該氫氧化物濃縮，分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液的步驟；將該固形物成分稀薄液分配至上述電解液供給噴嘴的步驟。
    16)如上述15)之藉由電解進行之氫氧化銦粉末或含有氫氧化銦之化合物粉末的製造方法，其具有下述步驟：對上述固形物成分濃縮液進行過濾，將該濾液分配至上述電解液供給噴嘴的步驟；及對經過濾之固形物進行乾燥製成氫氧化銦粉末或含有氫氧化銦之化合物粉末的步驟。
    17)如上述12)至16)之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其中，以電解液之供給速度對於電流值、電解面積、時間成為0.01~100.0L．m2/A．分之方式使電解液流動。
    於藉由電解而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物時，能較有效率地製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物，藉此具有可提高製造靶材時之燒結性的優異效果。
    又，於電解槽中配置有作為陽極(anode)之銦板及陰極(cathode)板，使電解液流動於其間而進行電解時，於電解之中途使電解陽極再生，藉此可防止雜質濃縮於陽極表面、陽極於電解中途脫落於浴中、混入電解液中生成之除氫氧化銦以外的雜質含量較高之氫氧化銦或雜質而導致氫氧化銦之品質產生差異。
    進而，於藉由電解而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物時，於陽極表面未附著氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物，亦於陰極之表面未電沈積銦或銦合金，使電解液回流，能有效率地製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物，藉此具有可提高生產性之優異效果。
    將自銦(In)製造氫氧化銦(In(OH)3)之電解步驟之流程係示於圖1中。如該圖1所示，鑄造作為原料之銦而製造由銦所構成之陽極板，且將其配置於電解槽中。
    於電解槽中，將複數個由不鏽鋼板或鈦板構成之陰極板交替地平行配置。對電解槽供給電解液。電解液係使用硝酸銨水溶液(NH4NO3)。再者，關於電解液，並無特別指定，可使用硝酸系水溶液、硫酸系水溶液、鹽酸系水溶液或其他電解質等中之任意一種，但就成本或製品純度維持之方面而言，可以說較佳為硝酸銨水溶液。
    於以下之說明中，揭示自銦(In)製造氫氧化銦(In(OH)3)之例，但亦可同樣應用於使用銦合金之陽極而製造含有氫氧化銦之化合物之情形。銦合金之代表例有用於ITO之銦錫合金或銦鋅合金等。除此之外，亦有添加其他元素之合金等，可應用於與作為本案發明之代表例所揭示之自銦(In)製造氫氧化銦(In(OH)3)之例產生同樣現象的所有情形。
    作為添加元素，除上述之錫(Sn)、鋅(Zn)以外，可列舉銅(Cu)、銀(Ag)、銻(Sb)、碲(Te)、鉍(Bi)、鉈(Tl)、鈣(Ga)、鍺(Ge)、鎘(Cd)等。於電解時，該等添加元素之大部分係與銦同樣地成為氫氧化物，但亦有以添加元素之氧化物或添加元素之單體或合金或其等之混合物的形式而存在之情形。本案發明係含有氫氧化銦中所包含之所有該等化合物(包含混合物)者。
    藉由電解，使銦熔解，且使氫氧化銦之微細粒子析出至電解液中。取出該析出至電解液中之氫氧化銦，使其濃縮，分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液。此時，對固形物成分濃縮液進行清洗、過濾、乾燥，獲得氫氧化銦粉末。另一方面，關於固形物成分稀薄液，使其回流至電解液中，進行液流調節後再利用。又，關於上述固形物成分濃縮液過濾後所得之濾液，亦使其回流至電解液中，進行液流調節後再利用。
    此處之問題在於，進行電解時，電流效率變得極其差。進而，於燒結經固液分離之氫氧化銦或其化合物時，存在燒結密度無法提高、或燒結密度於靶材內產生不均之問題。
    因此，經過各種研究後明白，若電解液中之導電度過低，則電流效率變得極其差，另外，燒結密度較低之原因在於附著於氫氧化銦上之電解液。
    又，隨著電解之進行，銦陽極(anode)板之雜質元素逐漸殘留濃縮於銦陽極表面。將該情況示於圖2。
    溶出電位高於銦之金屬元素殘留於表面，僅銦離子化並溶出。若雜質濃縮於陽極表面，則該雜質尤其是溶出電位高於銦之金屬元素亦離子化並溶出，且混入氫氧化銦漿料中。進而，雜質自陽極表面脫落，混入氫氧化銦漿料中。
    本發明係於藉由電解而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物之時，將電解液之導電度設為10mS/cm以上、更佳之上限為500mS/cm進行電解，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中。藉此，可使電流效率成為大致100%。
    進而，本發明之必要條件係對所析出之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物進行清洗直至該清洗液之導電度成為1mS/cm以下為止。較佳為，清洗至清洗液之導電度成為0.1mS/cm以下為止。將藉此獲得之氫氧化物乾燥或還原，將其作為氧化物之燒結原料，進而進行燒結。藉此，可使燒結體之相對密度提高至99%以上。
    又，於本案發明中，對上述方面進行改良，於陽極板之重量成為陽極之初始重量之20%~80%之階段中止電解。若未達20%，則大量之雜質會濃縮於陽極表面，而產生如上所述之問題。若超出80%，則使用效率較差，生產性惡化。繼而，取出使用完之陽極板，對於該使用完之陽極板，補充新的銦金屬並加以鑄造，重新製作陽極板，該熔解-鑄造法並無特別之限制。不補充新的銦金屬，僅鑄造使用完之陽極板亦毫無問題。
    使用該重新製作之銦金屬陽極板開始電解，可使電解液中析出氫氧化銦粒子。該重新製作陽極板可經由同樣之步驟，使用至陽極板之重量成為陽極之初始重量之20%~80%之階段。使用後，可藉由同樣之方法再生電解陽極。該陽極之重新製作之操作可反覆進行數次。
    可使用之陽極之範圍較寬，為初始重量之20%~80%，其主要係取決於陽極之純度之差異。一般而言，流通之銦原料中雜質之含量會大幅變動。又，於陽極之製作階段，雜質之混入量亦會視狀況而有變動。若雜質較多，則進行電解時，濃縮於陽極表面之雜質量當然會增多，從而使用效率降低。另一方面，若雜質較少，則濃縮於陽極表面之雜質量會較少，故而使用效率較高。
    電解亦並非均勻地消耗陽極表面，與雜質較多之部位相比，電流容易流動之部位(雜質較少之部位)的消耗更快，亦有陽極錠自中途脫落之現象。根據以上情況可以說，存在如下傾向：雜質含量較少之陽極的使用效率較高，雜質含量較多之陽極的使用效率較低。
    又，亦存在並非所有In均成為氫氧化銦，而於陰極之一部分電沈積有In，其成長而導致短路之情形。於該情形時，必需中斷電解。該短路可由電壓變化看出。該等要因為上述20%~80%之寬範圍的理由。
    此處之問題在於，進行電解時，於電解槽中之由銦所構成之陽極板之表面附著有生成之氫氧化銦，又，於陰極板之表面電沈積有銦，存在無法繼續電解之問題。該銦以樹枝(樹枝狀結晶)狀延伸，亦產生陽極及陰極短路之問題。
    此種問題在於，若為了提高生產效率而提高電解電流密度，則會較明顯地產生氫氧化銦之附著或銦之電沈積。銦對陰極板之電沈積或氫氧化銦對陽極板之附著雖並非那麼牢固，但若其附著量增多，則有逐漸變得難以剝離之傾向。因此，於電解之初期，進行如下方法(試驗)：使電解液於各陽極板與陰極板之間回流，藉由電解液之回流，阻止銦對陰極之電沈積或氫氧化銦對陽極之附著。
    使用圖3說明先前之電解裝置。該圖3所示之左側為電解槽之俯視圖，右側為陽極板與陰極板之中間位置之側視圖。如圖3所示，於電解槽中將陽極(anode)板與陰極(cathode)板隔開10~500mm之間隔而配置，將供給電解液之噴嘴之供給口配置於電解槽上部。
    繼而，沿圖3之右側之圖之箭頭所示之方向，向電解槽中供給電解液。供給電解液之流動強度(電解液供給速度)設為0.5L．m2/A．分。該電解液之流動強度(電解液供給速度)係表示對於陽極或陰極中之任一者之電流密度(A/dm2或A/m2)的流速(L/分)。以下，表示電解液之流動強度(電解液供給速度)之情形係使用同樣之含義。
    於該先前之電解液之供給方法中，產生銦對陰極板之電沈積或氫氧化銦對陽極板之附著。即便將電解液之流動強度(電解液供給速度)設為大於上述者，亦具有同樣之結果。
    為了抑制銦對該陰極板之電沈積或氫氧化銦對陽極板之附著之產生，考慮到調節液流之方向，進行數次實驗。
    將該氫氧化銦之電解製造裝置之概略說明圖示於圖4。圖4之左側為自上方觀察之概略說明圖(俯視圖)，右側為陽極板與陰極板之中間位置之側面之概略說明圖。除噴嘴之配置以外，均與圖3所示之結構相同。
    繼而，使電解液沿圖4之右側之圖之箭頭所示之方向回流。該電解液之流動強度(電解液供給速度)設為0.01~100.0L．m2/A．分。如圖4所示，使液流以自各陽極、陰極間之下側向中央旋轉之方式流動。
    再者，若電解液供給速度低於0.01L．m2/A．分，則即便利用回流方式，亦無法解決上述之問題。若高於100.0L．m2/A．分，則液流之循環速度變快，液流成為紊流，附著於陽極表面之氫氧化銦以粗大之顆粒狀直接剝離、脫落，或者，生成之氫氧化物之形狀變得極其微細，從而無法使用。該電解液之流動強度(電解液供給速度)較佳為0.1~10.0L．m2/A．分。
    根據圖4之液流之控制結果可知，若使用如圖4所示之噴嘴，則銦對陰極板之電沈積或氫氧化銦對陽極板之附著均消失。為查明該原因，調查電解槽內之電解液經過確認後可知，如圖5之液流之示意圖所示，於陰極板與陽極板之中央部產生充分之電解液之流動。
    其結果為，本發明之回流方法極其有效，藉由簡單的裝置之改良，可有效地抑制氫氧化銦對陽極板之附著或銦對陰極板之電沈積之產生，於陰極板及陽極板之所有面均未發現該附著或電沈積之產生。
    根據以上可知，於各陰極板與陽極板之間，自一側緣向另一側緣供給電解液、且使其於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流係抑制銦對陰極板之電沈積或氫氧化銦對陽極板之附著的有效方法，本發明係基於如上述之實驗結果而成者。
    即，可知，於電解槽中將陰極板與作為原料之銦之陽極板隔開10~500mm之間隔交替地排列，於該陰極板與陽極板之間且為各陰極板及陽極板之一側緣之附近位置，配置向陰極板及陽極板之另一側緣供給電解液之噴嘴，使自該噴嘴之開口部流出之電解液於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，從而使電解液中析出氫氧化銦之方法較為有效。
    再者，關於供給電解液之噴嘴徑(口徑)，係根據電解槽之大小、各陰極板與陽極板之間隔之大小、電解液之供給量、噴嘴之配置及個數等而適當調節。因此，噴嘴徑(口徑)並無特別限制。
    於陰極板與陽極板之間，亦可形成較寬大之間隙，於此種情形時，亦可增加液流。即，配置1個或複數個供給電解液之噴嘴作為朝陰極板與陽極板之間之另一側緣供給電解液之噴嘴，使自該噴嘴之開口部流出之電解液於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，可使氫氧化銦析出至電解液中。
    有效的是，對自下部噴嘴、上部噴嘴、或中間噴嘴之開口部流出的電解液之液流進行調節，使各者之液流於陰極板與陽極板之間以自各陰極板及陽極板之一側緣向另一側緣畫弧線之方式回流(旋轉)。認為，於此情形時，電解液之回流必需均勻地流動於各陰極板與陽極板之間，該液流之一部分必需銜接於陰極板及陽極板之表面。然而，若於陰極板與陽極板之間可回流至陰極板及陽極板之整個表面，則可以說該回流之方向不需有特別限制。
    本發明中，使用不鏽鋼板或鈦板作為陰極板較為有效，但只要不污染電解液，亦可為其他材料。
    可為如下之電解製造裝置，其中設置有取出析出至電解液中之氫氧化銦之裝置、將該氫氧化物濃縮並分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液之裝置、及將該固形物成分稀薄液分配至上述電解液供給噴嘴之裝置，該電解製造裝置還具有：對上述固形物成分濃縮液進行過濾，將該濾液分配至上述電解液供給噴嘴之裝置；利用水清洗經過濾之固形物之裝置；及對其進而進行乾燥而製成氧化銦粉末之氧化銦粉末製造裝置。為了降低製造裝置之成本，固液分離裝置、過濾裝置、濾液分配裝置、水洗裝置、粉末製造裝置等亦可伴隨本發明之電解裝置而設置。
    [實施例]
    其次，說明本發明之實施例。再者，本實施例僅為一例，本發明並非限制於此例。即，於本發明之技術思想之範圍內，包含實施例以外之所有態樣或變形。
    (實施例1)
    於陽極使用銦板，於陰極使用不鏽鋼板，使用硝酸銨水溶液作為電解液，藉由電解而使氫氧化物析出。將此情形時之電解液之導電度設為10mS/cm進行電解，結果電流效率為95%。
    進而，過濾該氫氧化物，使用純水進行清洗直至清洗液之導電度成為0.1mS/cm。其後，加以乾燥而成為氧化銦，進而於1500℃之條件下進行燒結，獲得相對密度98%之銦燒結體。
    再者，此情形係表示於陽極使用銦且藉由電解而使氫氧化銦析出之例，於使用銦-錫等銦合金而使含有氫氧化銦之化合物(例如氫氧化銦與氫氧化錫之混合物)析出之情形時，亦可獲得同樣之結果。
    即，對任一情形時所獲得之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物進行清洗，藉此可確認相對密度提高，而且可確認成為其指標且為可控制之條件係清洗液之導電度。
    (實施例2)
    將實施例1之電解液之導電度替換為100mS/cm而進行電解。此情形時之電流效率為99%。其後，利用純水進行再漿化洗淨(repulp washing)直至清洗液之導電度成為0.01mS/cm。於與實施例1相同之條件下進行燒結，結果獲得燒結體之相對密度為99.5%之高密度燒結體。
    再者，此情形係表示於陽極使用銦且藉由電解使氫氧化銦析出之例，於使用銦-錫等銦合金而使含有氫氧化銦之化合物(例如氫氧化銦與氫氧化錫之混合物)析出之情形時，亦可獲得同樣之結果。
    與實施例1同樣地，對氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物進行清洗，藉此可確認相對密度提高，而且可確認成為該指標且為可控制之條件係清洗液之導電度。
    (比較例1)
    將實施例1之電解液之導電度替換為8.0mS/cm而進行電解。其結果為，自陽極板產生氧氣，自陰極板產生氫氣，因此電流效率約為80%，差。因無法製造出作為燒結原料之水準之氫氧化銦，故其後之步驟中止。
    (比較例2)
    將實施例1之電解液之導電度替換為50mS/cm而進行電解。電流效率為99%，良好，其後，對氫氧化物利用純水進行再漿化洗淨直至清洗液之導電度成為2mS/cm。於與實施例1相同之條件下進行燒結，結果燒結密度為95%，差，一部分燒結體產生破裂。認為，其係對析出之氫氧化銦未充分進行清洗之結果。
    再者，此情形係表示於陽極使用銦且藉由電解使氫氧化銦析出之例，於使用銦-錫等銦合金而使含有氫氧化銦之化合物(例如氫氧化銦與氫氧化錫之混合物)析出之情形時，亦具有同樣之結果。
    (比較例3)
    將實施例1之電解液之導電度替換為1mS/cm而進行電解。結果電流效率為50%，極差。然而，對析出之氫氧化物利用純水進行再漿化洗淨直至清洗液之導電度成為0.01mS/cm。
    繼而，於與實施例1相同之條件下進行燒結，結果燒結密度可達到99%。電解時之電流效率差，因此在實際操作中並非可使用之條件，但可確認氫氧化銦之清洗具有使燒結密度提高之效果。
    再者，此情形係表示於陽極使用銦且藉由電解使氫氧化銦析出之例，於使用銦-錫等銦合金而使含有氫氧化銦之化合物(例如氫氧化銦與氫氧化錫之混合物)析出之情形時，亦具有同樣之結果。
    (實施例3)
    於自金屬銦(In)製造氫氧化銦(In(OH)3)之電解步驟中，鑄造出作為原料之金屬銦，製造由金屬銦構成之陽極板，將其配置於電解槽中。於電解槽中，將由不鏽鋼板或鈦板構成之陰極板交替地配置。複數個該等陽極板及陰極板平行地配置。向電解槽供給電解液。電解液係使用硝酸銨水溶液(NH4NO3)開始電解。
    其次，使電解液中析出氫氧化銦粒子，於陽極板成為初始重量之80%之階段中止電解。繼而取出使用完之陽極板，使該使用完之陽極板熔解。於進行該熔解之時，補充新銦金屬並加以鑄造，重新製作陽極板。
    使用該重新製作之銦金屬陽極板，再次開始電解，可使氫氧化銦粒子析出至電解液中。該重新製作之陽極板可經由同樣之步驟，使用至成為陽極之初始重量之20%~80%之階段。於使用後，可藉由同樣之方法再生電解陽極。
    於電解後，適當地取出析出至電解液中之氫氧化銦漿料，將該漿料濃縮，分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液。繼而，將該固形物成分稀薄液分配至上述電解液供給噴嘴。又，對上述固形物成分濃縮液進行過濾，將該濾液分配至上述電解液供給噴嘴，另一方面，將經過濾之固形物加以乾燥，製成氫氧化銦粉末。
    (實施例4)
    與實施例1同樣地使氫氧化銦粒子析出至電解液中，於陽極板成為初始重量之20%之階段中止電解。與實施1同樣地進行重新製作，開始電解。重新製作之陽極板係使用至成為陽極之初始重量之50%為止。於使用後，藉由同樣之方法再生電解陽極。
    於電解後，適當地取出析出至電解液中之氫氧化銦漿料，將該漿料濃縮，分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液。繼而，將該固形物成分稀薄液分配至上述電解液供給噴嘴。又，對上述固形物成分濃縮液進行過濾，將該濾液分配至上述電解液供給噴嘴，另一方面，將經過濾之固形物加以乾燥，製成氫氧化銦粉末。
    (實施例5)
    與實施例1同樣地使氫氧化銦粒子析出至電解液中，於陽極板成為初始重量之60%之階段中止電解。繼而，取出使用完之陽極板，將其熔解，於熔解時，添加新的銦金屬。
    使用該重新製作之陽極板，開始電解。重新製作之陽極板係使用至成為陽極之初始重量之30%為止。於使用後，藉由同樣之方法再生電解陽極。
    於電解後，適當地取出析出至電解液中之氫氧化銦漿料，將該漿料濃縮，分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液。繼而，將該固形物成分稀薄液分配至上述電解液供給噴嘴。又，對上述固形物成分濃縮液進行過濾，將該濾液分配至上述電解液供給噴嘴，另一方面，將經過濾之固形物加以乾燥，製成氫氧化銦粉末。
    (比較例4)
    於自金屬銦(In)製造氫氧化銦(In(OH)3)之電解步驟中，鑄造出作為原料之金屬銦，製造由金屬銦構成之陽極板，將其配置於電解槽中。於電解槽中，將由不鏽鋼板或鈦板構成之陰極板交替地配置。複數個該等陽極板及陰極板平行地配置。向電解槽供給電解液。電解液係使用硝酸銨水溶液(NH4NO3)。
    為了提高電解之生產效率，而欲繼續進行至成為陽極初始重量之15%左右。於該電解之中途，在銦陽極(anode)板及不鏽鋼製陰極(cathode)板產生大量的銦之粗大顆粒狀之雜質，因該等粗大顆粒狀之雜質而導致陽極板及陰極板短路，無法進行電解。
    於由銦金屬構成之陽極板，因雜質濃縮，故電壓升高，該雜質溶出。其結果為，雜質混入氫氧化銦中，產生電解液中之純度變差之問題。
    (比較例5)
    因為陽極之雜質濃度較高，故於成為陽極之初始重量之85%左右的時間點中止電解。獲得之氫氧化物在純度等方面毫無問題，但於陽極表面大量地濃縮有雜質，若再繼續電解，則會導致於氫氧化銦之品質方面產生差異。
    (比較例6)
    為了提高電解之生產效率，而欲繼續進行至成為陽極之初始重量之5%左右。於該電解之中途，於陽極板之局部形成孔，陽極脫落於浴中，裝置損壞，無法繼續進行電解。
    又，完成之氫氧化物中之品質之差異較大，無法使用。
    (實施例6)
    使用如上述圖4所示之裝置，藉由電解使氫氧化銦析出。具體而言，於電解槽中，將11個1000mm×700mm×5mmt之不鏽鋼製陰極板與作為原料之10個1000mm×700mm×50mmt之由銦構成之陽極板交替地排列10組，將該陰極板與陽極板之間隔開50mm，且於各陰極板與陽極板之間之一側緣之下端附近位置(距液面1000mm之位置)，配置向陰極板及陽極板之另一側緣供給電解液的噴嘴。
    繼而，使電解液沿圖4之右側之圖之箭頭所示之方向回流，使自該噴嘴之開口部流出之電解液於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，使氫氧化銦析出至電解液中。該電解液之流動強度(電解液供給速度)設為0.1L．m2/A(安培)．分。如圖4所示，液流係以自下方向上方旋轉之方式流動。
    可知，根據如圖4所示之回流之方向，不會於陰極板與陽極板之間產生電解液流動的遺漏部分，而是產生整體均勻之回流(旋回流)。其結果為，可抑制氫氧化銦對該陽極板之附著或銦對陰極板之電沈積。於陰極板及陽極板之所有面均未發現該附著或電沈積之產生。
    再者，此情形係表示於陽極使用銦且藉由電解使氫氧化銦析出之例，於使用銦-錫等銦合金而使含有氫氧化銦之化合物析出之情形時，亦可獲得同樣之現象。於以下之實施例中亦同樣。
    (實施例7)
    利用與實施例1同樣之方法，將該電解液之流動強度(電解液供給速度)設為10L．m2/A．分。於此情形時，與實施例1同樣地可抑制銦對該陰極板之電沈積或氫氧化銦對陽極板之附著。於陰極板及陽極板之所有面均未發現該電沈積或附著之產生。
    (實施例8)
    利用與實施例1同樣之方法，將該電解液之流動強度(電解液供給速度)設為0.01L．m2/A．分。於此情形時，雖部分地產生銦對該陰極板之電沈積或氫氧化銦對陽極板之附著，但並非不能使用。
    (實施例9)
    利用與實施例1同樣之方法，將該電解液之流動強度(電解液供給速度)設為50L．m2/A．分。於此情形時，氫氧化銦之粗大顆粒自陽極有少許剝離，但可以使用。
    (實施例10)
    利用與實施例1同樣之方法，將該電解液之流動強度(電解液供給速度)設為100L．m2/A．分。於此情形時，於陽極，氫氧化銦之粗大顆粒有一部分剝離，進而產生少許微細之氫氧化物(於1100℃焙燒後之平均粒徑為0.5μm以下)。但是，此本身並非大問題，可以使用。
    (實施例11)
    使用如圖6所示之裝置，藉由電解使氫氧化銦析出。具體而言，係使用與實施例1同樣之陽極、陰極，於該陰極板與陽極板之間且為各陰極板與陽極板之間之一側緣之下端附近位置(距液面1000mm之位置)及距液面155mm之位置，配置向陰極板及陽極板之另一側緣供給電解液的下部噴嘴及上部噴嘴。
    繼而，使2種電解液沿如圖6之右側之圖之箭頭所示之方向回流，使自該下部噴嘴及上部噴嘴之開口部流出之電解液於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，使氫氧化銦析出至電解液中。該電解液之流動強度(電解液供給速度)設為10L．m2/A．分。如圖6所示，使液流以自上方向中央旋轉及自下方向中央旋轉該2種方式流動。
    可知，根據如圖6所示之回流之方向，不會於陰極板及陽極板之特定位置產生電解液流動之遺漏部分，而是產生整體均勻之回流(旋回流)。與實施例1之主要不同係：於距液面155mm之位置設置有上部噴嘴。其結果為，可抑制銦對該陰極板之電沈積或氫氧化銦對陽極板之附著。於陰極板及陽極板之所有面均未發現該電沈積或附著之產生。
    再者，如圖8之液流之示意圖所示，與實施例2同樣地使用配置成2段之噴嘴，將上段之噴嘴配置於距液面322mm之位置，進行與實施例2同樣之實驗，結果獲得與實施例2同樣之結果。
    (實施例12)
    使用如圖9所示之裝置，藉由電解使氫氧化銦析出。具體而言，係使用與實施例1同樣之陽極、陰極，於該陰極板與陽極板之間且為各陰極板及陽極板之一側緣之下端附近位置(距液面1000mm之位置)、距液面322mm之位置及上端附近位置(距液面155mm之位置)，配置向陰極板及陽極板之另一側緣供給電解液的下部噴嘴、中間噴嘴及上部噴嘴。
    繼而，使3種電解液沿圖9之右側之箭頭所示之方向回流，使自該下部噴嘴、中間噴嘴及上部噴嘴之開口部流出之電解液於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，使氫氧化銦析出至電解液中。該電解液之流動強度(電解液供給速度)設為10L．m2/A．分。使液流以如下3種方式流動：自上部噴嘴由上向下旋轉、自中間噴嘴向上下分支而旋轉、及自下部噴嘴由下向上旋轉。
    可知，根據圖9所示之回流之方向，不會於陰極板與陽極板之中央部產生電解液流動之遺漏部分，而是產生整體均勻之回流(旋回流)。與實施例2之主要不同係：將中間噴嘴之開口部配置於距液面322mm之位置之方面，於此情形時，亦可抑制銦對該陰極板之電沈積或氫氧化銦對陽極板之附著。於陰極板及陽極板之所有面均未發現該電沈積或附著之產生。
    (比較例7)
    使用如圖3所示之裝置，自電解槽之單側液面上導入電解液，藉由電解使氫氧化銦析出。具體而言，係使用與實施例1同樣之陽極、陰極。該電解液之電解液供給速度設為0.5L．m2/A．分。其結果為，氫氧化銦大量地附著於該陽極板，又，亦存在銦對陰極板之電沈積，電解變得困難。
    (比較例8)
    使用如圖3所示之裝置，將電解液供給速度設為10L．m2/A．分進行電解。其結果為，氫氧化銦附著於陽極板，且產生銦對陰極板之電沈積。該附著或電沈積係主要產生於陰極板與陽極板之大致中央部及下部。即便將電解液之流動強度(電解液供給速度)設為大於上述值，亦具有同樣之結果。
    (比較例9)
    使用電解裝置，對照圖3而自電解槽之單側之底部之1個部位導入電解液，藉由電解使氫氧化銦析出。此情形時，並非於各陰極板與陽極板之間配置噴嘴而使電解液於該等之板之間回流，而僅與圖3同樣地自電解槽底之部分(1個部位)供給電解液。將電解液供給速度設為0.5L．m2/A．分。
    其結果為，氫氧化銦附著於陽極板，且產生銦對陰極板之電沈積。該附著或電沈積主要係產生於陰極板與陽極板之大致中央部。即便將電解液之流動強度(電解液供給速度)設為大於上述值，亦具有同樣之結果。
    (比較例10)
    於與實施例1相同之條件下，將電解液供給速度設為0.009L．m2/A．分。其結果為，氫氧化銦大量地附著於陽極板，銦電沈積於陰極板，導致陽極及陰極短路，難以繼續進行電解。該附著或電沈積主要係產生於陰極板與陽極板之大致中央部。
    (比較例11)
    於與實施例1相同之條件下，將電解液供給速度設為110L．m2/A．分。其結果為，未產生氫氧化銦對陽極板之附著或銦對陰極板之電沈積，但銦之粗大顆粒自陽極大量地剝離，進而大量地產生微細之氫氧化物(於1100℃焙燒後之平均粒徑為0.5μm以下)，無法使用。
    [產業上之可利用性]
    本發明係一種藉由電解而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物之方法，其中，將電解液之導電度設為10mS/cm以上進行電解，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中，進而對所析出之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物進行清洗直至清洗液之導電度成為1mS/cm以下，藉此，有抑制生產性之降低或品質之降低的優異效果，因此對形成ITO膜等之濺鍍用ITO靶材等之製造較為有用。
    又，本發明係於電解槽中將陰極板及作為原料之銦金屬之陽極板隔有間隔而交替地排列，對該陰極板及陽極板之間供給電解液，藉由電解而製造氫氧化銦粉末的方法，其中，使氫氧化銦粒子析出至電解液中，在浸漬於電解液中之陽極板成為初始重量之20%~80%之階段中止電解，取出使用完之陽極板，使該使用完之陽極板熔解並且補充銦金屬並加以鑄造，重新製作陽極板，使用該重新製作之陽極板開始電解，使電解液中析出氫氧化銦粒子，結果，可抑制因電解導致的氫氧化銦粉末之製造方法中產生之附著，且可防止於陰極之表面生成銦金屬，藉此可抑制生產性之降低。該方法對形成ITO膜之濺鍍用ITO靶材之製造較為有用。
    進而，本發明係一種藉由電解而進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物之製造方法，其係藉由電解而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的方法，其特徵在於：於電解槽中將陰極板與作為原料之銦或銦合金之陽極板隔有間隔而交替地排列，於該陰極板與陽極板之間且為各陰極板及陽極板之一側緣之附近位置，配置向陰極板及陽極板之另一側緣供給電解液之噴嘴，對自該噴嘴之開口部流出之電解液之液流進行調節，使其於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，從而使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中。於藉由電解法而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物時，可抑制氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物附著於陽極之表面，且可防止於陰極之表面生成銦或銦合金，藉此具有可抑制生產性之降低的優異效果，因此對形成ITO膜之濺鍍用ITO靶材之製造較為有用。
    圖1係表示自銦製造氫氧化銦之電解步驟之流程之圖。
    圖2係表示於為了提高電解之生產效率而提高電流密度之情形時，雜質濃縮於銦陽極(anode)板表面之情況之圖。
    圖3係於電解槽中將陽極(anode)板與陰極(cathode)板隔有間隔而配置，將供給電解液之噴嘴之供給口配置於電解槽之上部而向電解槽供給電解液的先前之電解裝置之概略說明圖。
    圖4係於電解槽中將陽極(anode)板與陰極(cathode)板隔有間隔而配置，並且將供給電解液之噴嘴之供給口配置於電解槽中之下側且為各陰極板與陽極板之間之一側緣，而使電解液於電解槽中回流之電解裝置之概略說明圖。
    圖5係示意性地表示使用圖4之裝置之情形時的液流之圖。
    圖6係於電解槽中將陽極(anode)板與陰極(cathode)板隔有間隔而配置，並且將供給電解液之2段噴嘴之供給口配置於電解槽中之下側及上側且為各陰極板與陽極板之間之一側緣而使電解液於電解槽中回流的電解裝置之概略說明圖。
    圖7係示意性地表示使用圖6之裝置之情形時之液流之圖。
    圖8係示意性地表示使用對於圖7而改變上部之噴嘴之位置的裝置之情形時之液流之圖。
    圖9係於電解槽中將陽極(anode)板及陰極(cathode)板隔有間隔而配置，將供給電解液之3段噴嘴之供給口配置於電解槽中之下側、中段位置、上側且為各陰極板與陽極板之間之一側緣而使電解液於電解槽中回流的電解裝置之概略說明圖。
    圖10係示意性地表示使用圖9之裝置之情形時的液流之圖。
    权利要求:
    Claims (17)
    [1] 一種藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其係藉由電解而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的方法，其特徵在於：將電解液之導電度設為10mS/cm以上進行電解，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物於電解液中析出，進而對析出之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物進行清洗直至該清洗液之導電度成為1mS/cm以下。
    [2] 如申請專利範圍第1項之藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其中，清洗至析出之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的清洗液之導電度成為0.1mS/cm以下。
    [3] 一種藉由電解進行之氫氧化銦粉末的製造方法，其係藉由電解而製造氫氧化銦粉末的方法，其特徵在於：使氫氧化銦粒子自陽極析出至電解液中，於陽極板之重量成為陽極初始重量之20%~80%之階段中止電解，取出使用完之陽極板，使該使用完之陽極板熔解並且補充銦金屬而加以鑄造，從而重新製作陽極板，使用該重新製作之陽極板開始電解，而使氫氧化銦粒子析出至電解液中。
    [4] 如申請專利範圍第3項之藉由電解進行之氫氧化銦粉末的製造方法，其中，使用不鏽鋼板或鈦板作為陰極板進行電解。
    [5] 如申請專利範圍第3或4項之藉由電解進行之氫氧化銦粉末的製造方法，其進一步具有下述步驟：取出析出於電解液中之氫氧化銦漿料的步驟；將該漿料濃縮，分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液的步驟；及將該固形物成分稀薄液分配至該電解液供給噴嘴的步驟。
    [6] 如申請專利範圍第5項之藉由電解進行之氫氧化銦粉末的製造方法，其具有下述步驟：對該固形物成分濃縮液進行過濾，將該濾液分配至該電解液供給噴嘴的步驟；及對經過濾之固形物進行乾燥製成氫氧化銦粉末的步驟。
    [7] 一種氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的電解製造裝置，其係藉由電解法而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的裝置，其特徵在於：於電解槽中將陰極板與作為原料的銦或銦合金之陽極板隔有間隔地交替排列，於該陰極板與陽極板之間且為各陰極板及陽極板之一側緣的附近位置，配置有朝陰極板及陽極板之另一側緣供給電解液之噴嘴，使自該噴嘴之開口部流出之電解液於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中。
    [8] 如申請專利範圍第7項之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的電解製造裝置，其中，陰極板為不鏽鋼板或鈦板。
    [9] 如申請專利範圍第7或8項之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的電解製造裝置，其中，配置有1個或複數個自各陰極板與陽極板之間之一側緣向另一側緣供給電解液之噴嘴，使自該噴嘴之開口部流出之電解液於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中。
    [10] 如申請專利範圍第7至9項中任一項之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的電解製造裝置，其具有下述裝置：取出析出至電解液中之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的裝置；將該氫氧化物濃縮，分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液的裝置；將該固形物成分稀薄液分配至該電解液供給噴嘴的裝置。
    [11] 如申請專利範圍第10項之氫氧化銦粉末之電解製造裝置，其具備對該固形物成分濃縮液進行過濾，將該濾液分配至該電解液供給噴嘴的裝置；及對經過濾之固形物進行乾燥，製造氫氧化銦粉末或含有氫氧化銦之化合物粉末的裝置。
    [12] 一種藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其係藉由電解而製造氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的方法，其特徵在於：於電解槽中將陰極板與作為原料之銦或銦合金的陽極板隔有間隔地交替排列，於該陰極板與陽極板之間且各陰極板及陽極板之一側緣之下端附近位置，配置朝陰極板及陽極板之另一側緣供給電解液之噴嘴，對自該噴嘴之開口部流出之電解液之液流進行調節，使其於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中。
    [13] 如申請專利範圍第12項之藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其中，使用不鏽鋼板或鈦板作為陰極板進行電解。
    [14] 如申請專利範圍第12或13項之藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其中，配置1個或複數個自各陰極板與陽極板之間之一側緣朝另一側緣供給電解液之噴嘴，對自該噴嘴之開口部流出之電解液之各個液流進行調節，使其於電解槽中之各陰極板與陽極板之間回流，使氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物析出至電解液中。
    [15] 如申請專利範圍第12至14項中任一項之藉由電解進行之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其進一步具有下述步驟：取出析出至電解液中之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的步驟；將該氫氧化物濃縮，分離成固形物成分濃縮液與固形物成分稀薄液的步驟；將該固形物成分稀薄液分配至該電解液供給噴嘴的步驟。
    [16] 如申請專利範圍第15項之藉由電解進行之氫氧化銦粉末或含有氫氧化銦之化合物粉末的製造方法，其具有下述步驟：對該固形物成分濃縮液進行過濾，將該濾液分配至該電解液供給噴嘴的步驟；及對經過濾之固形物進行乾燥製成氫氧化銦粉末或含有氫氧化銦之化合物粉末的步驟。
    [17] 如申請專利範圍第12至16項中任一項之氫氧化銦或含有氫氧化銦之化合物的製造方法，其中，以電解液之供給速度對於電流值、電解面積、時間成為0.01~100.0L．m2/A．分之方式使電解液流動。
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